De Logo Patch Beanie van Acne Studios combineert een geribbelde breistructuur en een brede omgeslagen rand met een minimalistische logopatch voor verfijnde, dagelijkse warmte. Belangrijkste kenmerken: Lichtgrijs | Wol | Zacht | Warm | Comfortabel | Stretch-knit voor een stevige pasvorm | Dik garen voor isolatie | Geribbelde breistructuur | Brede omgeslagen rand | Minimalistische logopatch op de rand | Afmetingen & pasvorm: Omtrek: 59 cm | One size | Samenstelling & verzorging: Shell: 82% Wol, 15% Yakwol, 2% Nylon, 1% Elastaan